中國傳開始製造國產DUV曝光機　挑戰荷蘭巨頭ASML

文章標題 :中國傳開始製造國產DUV曝光機　挑戰荷蘭巨頭ASML

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發布時間：2026/07/27 22:12

記者署名：Reuters 路透社報導

原文內容：

外媒報導，中國已開始製造自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，試圖打破荷蘭巨頭艾司摩爾（ASML）長期壟斷的局面。這批關鍵設備預計今年內交付給中芯國際等中國晶片大廠，消息一出導致ASML股價下跌。

根據路透社（Reuters）引述《The Information》報導，知情人士透露，這些中國國產的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，預計將於今年交付給中芯國際（SMIC）、華虹半導體及長鑫存儲等中國指標性晶片製造商。受此消息影響，艾司摩爾（ASML）股價下跌了4.6%。由於此項技術發展極具敏感性，消息來源並未透露這家背後有國家資金支持的製造商名稱。報導指出，雖然這項技術突破未來可能在中國市場對ASML構成挑戰，但目前該系統在性能與可靠性上仍落後，在大規模量產前還需要進行更多測試，因此ASML目前的競爭優勢暫時不受影響。

此外，國產DUV曝光機的初期產量將非常有限，預計今年僅能生產約5台，到2027年則預估可達到約20台。在西方國家限制中國取得更先進的極紫外光（EUV）曝光機後，浸潤式DUV曝光機已是中國晶片廠目前能取得的最先進曝光工具。雖然中國也正在研發國產EUV曝光機，但目前仍處於原型階段。

隨著美國考慮對中國實施更嚴格的曝光設備出口與售後服務限制，這項國產技術的進展，可望為中國晶片製造商在面臨地緣政治壓力時，提供關鍵設備的替代來源。

心得/評論：美股今天小漲開盤，沒多久開始跳水，時間點跟這聞發布時間差不多

中國自製DUV其實早就有新聞，之前傳聞在試產驗證中，

但是7月就量產似乎進度有超前，這是否意味中國AI晶片的產能瓶頸會突破? 股點:ASML目前下跌7%中

DUV被突破是早就知道的事了吧，

怎麼現在新聞才在報?

去年就有消息說中國以日本機台為參考，

以自家光源還有鏡組完成DUV設計。

事實上，

現在中國工業精密光學鏡組還有雷射光源早就能跟日本匹敵了。

何況性能也用不著一定要超越日本，性能規格達標就是達標啊!

重點在成本，

中國光源零件跟鏡組這種消耗品的價格

大概不到日本報價1/4，這才是殺傷力所在!

另一個有競爭力的因素是

中國可以不用管美國制裁把半導體設備賣給任何人。

像是俄羅斯半導體供應鏈也被美國制裁的，

國內空有IC設計人才卻沒有半導體生產供應鏈，

勢必為了奪軍工用途的半導體生產能力

向中國合作甚至購買整套產線設備。

這一切都會成為讓中國半導體設備研發的助力。

也不用說中國半導體設備沒人買，

台灣自己的封裝廠也買了不少中國設備。

不偏不倚的正視事實總比情緒發言亂講一通的好。

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